![]() 人工智能數(shù)據(jù)中心服務(wù)器機(jī)架是一種標(biāo)準(zhǔn)化的外殼裝置,專門用于容納為人工智能工作負(fù)載而設(shè)計(jì)的高密度計(jì)算系統(tǒng)。與主要支持基于CPU的企業(yè)應(yīng)用程序的傳統(tǒng)服務(wù)器機(jī)架不同,人工智能機(jī)架是為需要大量GPU處理能力、更高的電力消耗以及更先進(jìn)的散熱管理而專門設(shè)計(jì)的。 人工智能服務(wù)器機(jī)架的功率密度遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)的信息技術(shù)設(shè)備配置。早期的機(jī)架平均功率在5至10KW左右,而現(xiàn)代的人工智能機(jī)架集群通常功率范圍在40KW至100KW以上,未來(lái)的設(shè)計(jì)則計(jì)劃在大規(guī)模部署中達(dá)到兆瓦級(jí)的容量。為了確保可靠性,設(shè)施采用了A/B備用電源供應(yīng)系統(tǒng),并由三相電源分配網(wǎng)絡(luò)支持。高容量、智能的機(jī)架式電源分配裝置能夠?qū)崟r(shí)監(jiān)測(cè)負(fù)載、電壓和能源使用情況。 這些巨大的負(fù)載帶來(lái)了諸如熱量過(guò)度產(chǎn)生、電路平衡復(fù)雜以及諧波失真等電氣方面的問(wèn)題。對(duì)電力擴(kuò)展進(jìn)行合理規(guī)劃能夠確保基礎(chǔ)設(shè)施能夠支持未來(lái)對(duì)圖形處理器的升級(jí),而無(wú)需進(jìn)行大規(guī)模的重新設(shè)計(jì)。 AI服務(wù)器生產(chǎn)制造商為了縮短檢測(cè)時(shí)間,降低生產(chǎn)寄供應(yīng)鏈的成本必須對(duì)服務(wù)器機(jī)架進(jìn)行全面的掃描。由于整柜服務(wù)器機(jī)架體積較大(例如標(biāo)準(zhǔn)42U機(jī)架高度約2000mm,寬度約600mm,深度可達(dá)1000–1200mm),且內(nèi)部結(jié)構(gòu)復(fù)雜,傳統(tǒng)抽檢方式難以全面覆蓋關(guān)鍵幾何特征,并且結(jié)構(gòu)復(fù)雜,借助蔡司藍(lán)光賽秒檢測(cè)所提供的數(shù)據(jù),以及該系統(tǒng)能夠防止不合格部件被裝運(yùn)出廠。 蔡司解決方案 ZEISS T-SCAN hawk2 手持式高精度系統(tǒng) 便攜式三維激光掃描儀ZEISS T-SCAN hawk2具有計(jì)量級(jí)精度和非凡的易用性。掃描任務(wù)和場(chǎng)景不受限制,手到,功成。 通過(guò)ZEISS T-SCAN hawk 2對(duì)服務(wù)器機(jī)架進(jìn)行三維掃描,可獲取整柜及關(guān)鍵結(jié)構(gòu)件的高密度點(diǎn)云數(shù)據(jù),并與CAD模型進(jìn)行對(duì)比分析。檢測(cè)內(nèi)容包括立柱平行度、框架平面度、安裝孔位尺寸與位置偏差、整體裝配偏差等關(guān)鍵幾何指標(biāo),從而在制造階段識(shí)別潛在裝配風(fēng)險(xiǎn)。
ZEISS T-SCAN hawk 2可以靈活布置到產(chǎn)線附近,操作簡(jiǎn)便,場(chǎng)地需求低。
蔡司同時(shí)提供機(jī)柜自動(dòng)化檢測(cè)解決方案,可高效滿足產(chǎn)線在線快速尺寸量測(cè)需求。依托T-SCAN Hawk2三維掃描設(shè)備搭配機(jī)械臂,按照預(yù)設(shè)程序自動(dòng)完成全流程掃描與測(cè)量作業(yè),大幅提升檢測(cè)效率、降低人工介入成本,實(shí)現(xiàn)機(jī)柜尺寸測(cè)量的自動(dòng)化、標(biāo)準(zhǔn)化與高效化。
小結(jié) AI算力升級(jí)推動(dòng)服務(wù)器機(jī)架向高密度、高功耗、高精度發(fā)展,結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)更為復(fù)雜,對(duì)制造質(zhì)控提出嚴(yán)苛要求。傳統(tǒng)檢測(cè)方式精度與效率難以滿足量產(chǎn)需求。ZEISS T-SCAN hawk2可實(shí)現(xiàn)機(jī)架全維度精密掃描檢測(cè),支持手持靈活檢測(cè)與機(jī)械臂自動(dòng)化在線測(cè)量,高效排查裝配缺陷、降本提效,保障AI機(jī)架高品質(zhì)量產(chǎn)交付。 蔡司擁有豐富的產(chǎn)品線包含顯微鏡,三維光學(xué)掃描儀,三坐標(biāo),工業(yè)CT,助力全面解決電子客戶面臨質(zhì)量挑戰(zhàn)與痛點(diǎn)。
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